ماسک محافظ نانوالیاف پزشکی تاشو
ماسک محافظ نانوالیاف پزشکی تاشو
مواد اولیه اصلی، ساختار و ترکیب:
ماسک (استریل) از بدنه ماسک، گیره بینی و کمربند ماسک تشکیل شده است.بدنه ماسک به این صورت تقسیم می شود: لایه سطحی، لایه فیلتراسیون، لایه نانو فیلتراسیون خوب، لایه زیرین، لایه دوستدار پوست، در مجموع پنج لایه.
سطح، لایه زیرین و لایه سازگار با پوست ماسک پارچه نبافته پلی پروپیلن spunbonded است، لایه فیلتراسیون پارچه نبافته پلی پروپیلن مذاب پاشیده شده است، لایه نانو فیلتر ریز غشای نانوالیافی است، گیره بینی از مواد پلاستیکی ساخته شده است، تسمه ماسک ساخته شده از نخ پلی استر و اسپندکس.
کاربرد:
این استاندارد برای محیط کار پزشکی، فیلتر ذرات معلق در هوا، بلوک قطرات، خون، مایعات بدن، ترشحات و سایر ماسک های پزشکی فیلتری خود جذب می باشد.
شاخص های فنی اصلی محصولات:
راندمان فیلتراسیون
وقتی سرعت جریان گاز 85 لیتر در دقیقه است، راندمان فیلتراسیون ماسک برای ذرات غیر روغنی باید الزامات جدول را برآورده کند.
| ورق 1،کلاس بازده فیلتراسیون % | |
| یکی | ≥95 |
| دو | ≥99 |
| سه | ≥99.97 |
مقاومت در برابر جریان هوا
برای جریان گاز 85 لیتر در دقیقه، مقاومت دمی ماسک نباید از 343.2pa (35mmH2O) تجاوز کند.
نفوذ خون مصنوعی
2 میلی لیتر خون مصنوعی را با فشار 10.7 کیلوپاسکال (80 میلی متر جیوه) داخل ماسک اسپری کنید.هیچ گونه نفوذی در داخل ماسک نباید رخ دهد
مقاومت در برابر رطوبت سطح
سطح آب در سطح بیرونی ماسک نباید کمتر از سطح 3 در GB/t4745-1997 باشد.
شاخص میکروبیولوژیکی
ماسک باید مطابق با الزامات شاخص های میکروبی در gb15979-2002 مطابق جدول 2 باشد.
برگه 2 شاخص میکروبیولوژیکی ماسک
| تعداد کل کلنی های باکتری CFU/G | گروه کولی | سودوموناس آئروژینوزا | استافیلوکوکوس اورئوس | استرپتوکوک همولیتیک | تعداد کل کلونی های قارچی |
| ≤200 | غیر قابل کشف | غیر قابل کشف | غیر قابل کشف | غیر قابل کشف | ≤100 |
باقیمانده اکسید اتیلن
برای ماسک های استریل شده با اکسید اتیلن، باقیمانده اتیلن اکسید نباید بیشتر از 10 گرم در گرم باشد.
مقاومت در برابر شعله
مواد مورد استفاده نباید قابل اشتعال باشند.زمان پس سوزی نباید از 5 ثانیه تجاوز کند
تحریک پوست
امتیاز تحریک اولیه مواد ماسک نباید از آن تجاوز کند
روش عقیم سازی:استریل کردن اکسید اتیلنباقیمانده اکسید اتیلن (g/g) ≤10
استاندارد：GB19083-2010
