Medikal na natitiklop na nanofiber protective mask
Medikal na natitiklop na nanofiber protective mask
Pangunahing hilaw na materyal, Istraktura at komposisyon:
Mask (sterility) Ito ay binubuo ng mask body, nose clip at mask belt.Mask katawan ay nahahati: ibabaw layer, pagsasala layer, fine nano pagsasala layer, ilalim na layer, Balat friendly na layer, kabuuang limang mga layer.
Ang ibabaw, ilalim na layer, at skin friendly na layer ng mask ay Polypropylene spunbonded nonwoven fabric , filtration layer ay Polypropylene melt-sprayed nonwoven fabric, fine nano filtration layer ay nanofiber membranece , ang nose clip ay gawa sa plastic na materyal, Ang mask belt ay gawa sa polyester at spandex yarn.
Application:
Naaangkop ang pamantayang ito sa kapaligiran sa pagtatrabahong medikal, salain ang particulate matter sa hangin, harangan ang mga droplet, dugo, likido sa katawan, pagtatago at iba pang self-absorption filter na medikal na respirator.
Pangunahing teknikal na tagapagpahiwatig ng mga produkto:
Kahusayan sa pagsasala
Kapag ang rate ng daloy ng gas ay 85L/min, ang kahusayan sa pagsasala ng maskara para sa mga hindi madulas na particle ay dapat matugunan ang mga kinakailangan sa talahanayan
| sheet 1,% ng klase ng kahusayan sa pagsasala | |
| Isa | ≥95 |
| dalawa | ≥99 |
| Tatlo | ≥99.97 |
Paglaban sa daloy ng hangin
Para sa daloy ng gas na 85L/min, ang inspiratory resistance ng mask ay hindi dapat lumampas sa 343.2pa (35mmH2O)
sintetikong pagtagos ng dugo
Mag-spray ng 2mL ng sintetikong dugo sa maskara sa presyon na 10.7kpa (80mmHg).Walang paglusot ang dapat mangyari sa loob ng maskara
Paglaban sa kahalumigmigan sa ibabaw
Ang antas ng tubig sa panlabas na ibabaw ng maskara ay hindi dapat mas mababa kaysa sa antas 3 sa GB/ t4745-1997
Microbiological indicator
Dapat matugunan ng maskara ang mga kinakailangan ng mga microbial indicator sa gb15979-2002, tulad ng ipinapakita sa talahanayan 2
Sheet 2 Microbiological index ng maskara
| Kabuuang bilang ng mga bacterial colonies CFU/G | coli group | pseudomonas aeruginosa | staphylococcus aureus | hemolytic streptococcus | Kabuuang bilang ng mga kolonya ng fungal |
| ≤200 | hindi matukoy | hindi matukoy | hindi matukoy | hindi matukoy | ≤100 |
Natirang ethylene oxide
Para sa mga maskara na isterilisado ng ethylene oxide, ang nalalabi ng ethylene oxide ay hindi dapat lumampas sa 10 g/g
paglaban sa apoy
Ang mga materyales na ginamit ay hindi dapat nasusunog.Ang oras ng afterburn ay hindi dapat lumampas sa 5s
Pangangati ng balat
Ang marka para sa pangunahing pangangati ng materyal ng maskara ay hindi dapat lumampas
Paraan ng isterilisasyon:isterilisasyon ng ethylene oxide.Natirang ethylene oxide (g/g) ≤10
Pamantayan：GB19083-2010
